1041_晶體繞射與電子顯微鏡概論_四技材工系三甲
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Course Intro
Course Plan
教學目標：課程概述與目標：電子、X光繞射分析和電子電子顯微鏡為材料結構分析最有利的工具，也是學生必備之具。學生學過本課程可以了解下列知識：
(1)晶體材料料之X光及電子繞原理、(2) X光繞射儀(XRD)原理及應用、(3)穿透式電子顯微鏡(TEM)原理及應用、(4)掃描式電子顯微鏡(SEM) 原理及應用、(5)能量分散光譜儀(EDS)之基本原理與應用。
Textbooks
1余樹楨：晶體之結構與性質，渤海堂，民國76年
2汪建民：材料分析，中國材料科學學會，民國87年
3B. D. Cullity, S. R. Stock：Elements of X-Ray Diffraction, 3 rd. ed, Prentice-Hall, 2001
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Diffraction & EM- 1 晶體結構概述
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Diffraction & EM- 2 晶體結構
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Diffraction & EM- 3 X光繞射基礎
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Diffraction & EM- 4 X光繞射原理
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Diffraction & EM- 5 實際晶體的繞射
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Diffraction & EM- 6 X光繞射儀與應用
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Diffraction & EM -7 穿透式電子顯微鏡結構與功能
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Diffraction & EM -8 穿透式電子顯微鏡繞射
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Diffraction & EM -9 穿透式電子顯微鏡影像
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Diffraction & EM -10 掃描式電子顯微鏡構造與功能
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Diffraction & EM -11 掃描式電子顯微鏡原理與應用
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Diffraction & EM -12 X光微區分析
Teacher / 徐富勇
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