1042_X光繞射導論_四技進修部材工系三甲
上課期間：從 即日起 到 無限期
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課程介紹
課程安排
教學目標：本課程的主要介紹X光繞射原理及在材料分析上的應用。課程內容包含X光特性、晶體幾何結構、X光繞射原理、粉末繞射圖形、繞射儀器構造及原理、晶體結構分析、成分分析等。
課本&教材
B. D. Cullity, S. R. Stock：Elements of X-Ray Diffraction, 3 rd. ed, Prentice-Hall, 2001
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X光繞射原理及其應用-工研院
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XRD第一章-Properties of X-ray
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XRD第一次作業
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XRD第一次作業參考解答
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XRD第二章-Geometry of Crystal
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XRD第三章-Diffraction I_Geometry
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XRD第二次作業
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XRD第四章-Diffraction II_Intensities
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XRD第三次作業
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XRD第五章-Diffraction III_Real Samples
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XRD第六章-Diffractometer Measurements(Part-I)
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XRD第九章-Phase Identification by XRD
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XRD第十章-Determination of Crystal Structure
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XRD第四次作業
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XRD第三次作業參考解答
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XRD第四次作業解答步驟
教師 / 曾傳銘
教師 / 曾傳銘
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