1051_晶體繞射與電子顯微鏡概論_四技材工系三甲
上課期間：從 即日起 到 無限期
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課程介紹
課程安排
教學目標：課程概述與目標：電子、X光繞射分析和電子電子顯微鏡為材料結構分析最有利的工具，也是學生必備之具。學生學過本課程可以了解下列知識：
(1)晶體材料料之X光及電子繞原理、(2) X光繞射儀(XRD)原理及應用、(3)穿透式電子顯微鏡(TEM)原理及應用、(4)掃描式電子顯微鏡(SEM) 原理及應用、(5)能量分散光譜儀(EDS)之基本原理與應用。
課本&教材
自編講義
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Diffraction & EM- 1 晶體結構概述
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Diffraction & EM- 2 晶體結構
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Diffraction & EM- 3 X光繞射基礎
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Diffraction & EM- 4 X光繞射原理
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Diffraction & EM- 5 實際晶體的繞射
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Diffraction & EM- 6 X光繞射儀與應用
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Diffraction & EM -7 穿透式電子顯微鏡結構與功能
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Diffraction & EM -8 穿透式電子顯微鏡繞射
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Diffraction & EM -9 穿透式電子顯微鏡影像
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Diffraction & EM -10 掃描式電子顯微鏡構造與功能
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Diffraction & EM -11 掃描式電子顯微鏡原理與應用
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Diffraction & EM -12 X光微區分析
教師 / 徐富勇
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