1051_薄膜製程_四技材工系四甲
上课期间:从 即日起 到 无限期
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课程介绍
课程安排
教學目標:1)各種薄膜製造技術(包括真空蒸鍍、電漿與離子束製程、化學氣相沉積、物理氣相沉積、磊晶技術、電化學與化學法)
(2)真空技術
(3)放電現象
(4)電漿原理
(5)離子與試片表面之交互反應
(6)薄膜成核與薄膜結構
(7)薄膜特性分析與機械性質測試方法
(8)各種薄膜應用實例介紹
课本&教材
作者: Milton Ohring
書名:Materials Science of Thin films-Deposition & Structure (2002)
出版社: Academic Press
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教學注意事項-更新
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Chap 1. 薄膜材料科學
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真空技術-1
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真空技術-2
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電鍍,無電鍍,化成處理
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Plasma & discharge
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電源供應器在電漿薄膜技術之應用與原理
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第一次作業(2016/11/8繳交)
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Chap-5 NEW-Plasma and Ion Beam Processing of Thin Films
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OES技術於鍍膜監測之應用
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真空技術-熊高鈺理事長
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游國揚-PLASUS Tools for Spectroscopic Plasma Monitoring and Process Control
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游國揚-EMICON技術說明文件
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高密度電漿濺鍍系統與應用+蒸鍍技術之實務應用-林郁洧博士
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Thin-Film Evaporation Processes
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CVD process
教师 / 李志偉