1071_半導體工程_四技電子系二甲
上課期間：從 即日起 到 無限期
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課程介紹
課程安排
教學目標：本課程為介紹半導體元件製作之基本課程，從積體電路介紹與歷史展望、晶體成長、晶圓製造與矽晶圓的基本性質、積體電路製程技術、CMOS製程的介紹，以及未來技術發展的趨勢，使學生能對半導體工程技術有基本的整體概念。
課本&教材
Hong Xiao, Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology 3/E, Prentice Hall, 2013.
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CH1導論
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CH2積體電路製程介紹
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CH3半導體基礎
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CH4晶圓製造
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CH5加熱製程
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CH6微影製程
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CH7電漿製程
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CH8離子佈植製程
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CH9蝕刻製程
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CH10化學氣相沉積與介電質薄膜
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微影技術 — 影響七十億以上個未來
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半導體工程報告順序
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期中考題
教師 / 許宏彬
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