2022fall_111springThin Film Processing_Department of Materials Engineering 4 A3 A
Course Period：Now ~ Any Time
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Course Intro
Course Plan
教學目標：1)各種薄膜製造技術(包括真空蒸鍍、電漿與離子束製程、化學氣相沉積、物理氣相沉積、磊晶技術、電化學與化學法)
(2)真空技術
(3)放電現象
(4)電漿原理
(5)離子與試片表面之交互反應
(6)薄膜成核與薄膜結構
(7)薄膜特性分析與機械性質測試方法
(8)各種薄膜應用實例介紹
Textbooks
作者: Milton Ohring
書名:Materials Science of Thin films-Deposition & Structure (2002)
出版社: Academic Press
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課程介紹
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Chap-1 A Review of Materials Science
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Chap 2-Vacuum Technology
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電鍍與無電鍍
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物理氣相沉積(PVD)-蒸鍍-濺鍍技術基本原理
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第一次作業(請於10/24繳交)
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高階鍍膜製程技術及應用介紹
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第二次作業(請於11/07繳交)
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Chap-6-CVD
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Chap-3 Thin-Film Evaporation Processes
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薄膜製程-第一次作業-解答
Teacher / 李志偉
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