1121_材料製程概論_四技材工系三甲
上課期間:從 即日起 到 無限期
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課程介紹

課程安排

教學目標:希望學生能對介紹半導體元件製作之基本課程,從積體電路介紹與歷史展望、晶體成長、晶圓製造與矽晶圓的基本性質、積體電路製程技術、CMOS製程的介紹,以及未來技術發展的趨勢,使學生能對半導體工程技術有基本的整體概念。
 課本&教材
蕭宏,半導體製程技術導論,第3版,全華圖書,2018
  • ch10_化學氣相沉積與介電質薄膜
  • ch12_化學機械研磨製程
  • ch1_導論
  • ch7_電漿製程
  • 粉末冶金第一章~第五章
  • 粉末冶金第六章~第九章
  • 鑄造
  • CH5鍛造
  • 金屬材料之表面改質
  • 材料製程與應用第一次作業
  • 材料製程與應用第二次作業
  • 材料製程與應用期中考
  • 材料製程與應用第三次作業
  • 材料製程第四次作業
  • 彭坤增材料製程概論成績登記簿
  • 材料製程與應用期末考
教師 / 彭坤增

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