1131_1123_X光繞射導論_四技材工系三甲四暑
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課程介紹

課程安排

教學目標:本課程主要介紹X光繞射原理及其在材料分析上之應用。課程內容包含X光特性介紹、晶體結構概述、X光繞射原理、粉末繞射圖形、繞射儀器構造原理與晶體結構與成份分析等。

 課本&教材
1. 自編講義 2. B. D. Cullity, S. R. Stock Elements of X-Ray Diffraction, 3 rd. ed, Prentice-Hall, 2001
  • 01-X光繞射導論-Introduction
  • 04-X光繞射導論-X-ray diffraction - Intensity
  • 02-X光繞射導論-Crystal
  • 03-X光繞射導論-X-ray diffraction
  • 113-1_X光繞射第一次小考_YCH_solution
  • 明志科技大學Xray scattering 20240626
  • 113-1_X光繞射期中考_YCH-solution
  • 113-1_X光繞射第三次小考_YCH
教師 / 黃裕清

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