1141_1133_X光繞射導論_四技材工系三甲四暑
上课期间：从 即日起 到 无限期
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课程介绍
课程安排
教學目標：本課程主要介紹X光繞射原理及其在材料分析上之應用。課程內容包含X光特性介紹、晶體結構概述、X光繞射原理、粉末繞射圖形、繞射儀器構造原理與晶體結構與成份分析等。
课本&教材
1. 自編講義
2. B. D. Cullity, S. R. Stock Elements of X-Ray Diffraction, 3 rd. ed, Prentice-Hall, 2001
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01-X光繞射導論-Introduction
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114-1_X光繞射第一次小考_YCH
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02-X光繞射導論-Crystal
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Appendix
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Intensity 範例
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114-1_X光繞射期中考_YCH
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04-X光繞射導論-X-ray diffraction - Intensity
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03-X光繞射導論-X-ray diffraction
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114 X光繞射期末考
教师 / 黃裕清
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