1141_薄膜製程_四技材工系四甲
上課期間：從 即日起 到 無限期
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課程介紹
課程安排
教學目標：1)各種薄膜製造技術(包括真空蒸鍍、電漿與離子束製程、化學氣相沉積、物理氣相沉積、磊晶技術、電化學與化學法)
(2)真空技術
(3)放電現象
(4)電漿原理
(5)離子與試片表面之交互反應
(6)薄膜成核與薄膜結構
(7)薄膜特性分析與機械性質測試方法
(8)各種薄膜應用實例介紹
課本&教材
作者: Milton Ohring
書名:Materials Science of Thin films-Deposition & Structure (2002)
出版社: Academic Press
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114-1-薄膜製程-注意事項
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薄膜科技相關產業簡介
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Chap-1 A Review of Materials Science
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Chap 2-Vacuum Technology
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Chap.3-蒸鍍技術
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Chap-4 物理氣相沉積(PVD)-蒸鍍-濺鍍技術基本原理
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Chap-5 化學薄膜製程
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第一次作業 (請於10月13日17:00前將紙本繳交至材料工程系辦公室李志偉老師抽屜)
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「薄膜製程」第一階段期中考重點提示
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CVD製程-1
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CVD製程-2
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鍍膜科技基礎與實務-sputter
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鍍膜科技基礎與實務-ARC
教師 / 李志偉
教師 / 張奇龍
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