1121_X光繞射導論_四技材工系三甲
上課期間：從 即日起 到 無限期
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課程介紹
課程安排
教學目標：本課程主要介紹X光繞射原理及其在材料分析上之應用。課程內容包含X光特性介紹、晶體結構概述、X光繞射原理、粉末繞射圖形、繞射儀器構造原理與晶體結構與成份分析等。
課本&教材
1. 自編講義
2. B. D. Cullity, S. R. Stock Elements of X-Ray Diffraction, 3 rd. ed, Prentice-Hall, 2001
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112-1_X光繞射第三次小考_YCH
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112-1_X光繞射第二次小考_YCH
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112-1_X光繞射期末考
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112-1_X光繞射第一次小考_YCH
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112-1_X光繞射期中考_YCH
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112-1_X光繞射第二次小考_YCH_solution
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03-X光繞射導論-Crystal_0421
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02-X光繞射導論-Crystal_0407
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XRD-Chapter-02-0704
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XRD-Chapter-03_Note
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XRD-Chapter-04_Note
教師 / 黃裕清
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