1121_X光繞射導論_四技材工系三甲
上课期间：从 即日起 到 无限期
LINE分享功能只支援行动装置
课程介绍
课程安排
教學目標：本課程主要介紹X光繞射原理及其在材料分析上之應用。課程內容包含X光特性介紹、晶體結構概述、X光繞射原理、粉末繞射圖形、繞射儀器構造原理與晶體結構與成份分析等。
课本&教材
1. 自編講義
2. B. D. Cullity, S. R. Stock Elements of X-Ray Diffraction, 3 rd. ed, Prentice-Hall, 2001
-
112-1_X光繞射第三次小考_YCH
-
112-1_X光繞射第二次小考_YCH
-
112-1_X光繞射期末考
-
112-1_X光繞射第一次小考_YCH
-
112-1_X光繞射期中考_YCH
-
112-1_X光繞射第二次小考_YCH_solution
-
03-X光繞射導論-Crystal_0421
-
02-X光繞射導論-Crystal_0407
-
XRD-Chapter-02-0704
-
XRD-Chapter-03_Note
-
XRD-Chapter-04_Note
教师 / 黃裕清
相关课程
|
|
||||||
|
|
|
||||||
|