1122_半導體製程_四技機械系三甲
上课期间：从 即日起 到 无限期
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课程介绍
课程安排
第一次面授課程說明影片
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課程大綱
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單元教學目標及內容
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參考教材
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半導體製程(112學年第一次面授)-20230807_195510-會議錄製
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01-1 ch1 introduction
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02 Ch2 clean room and wafer clean
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03 ch4 Silicon wafer
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04 Ch7 Plasma
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05 Ch 11 PVD
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06 CH10 CVD
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07 Ch6 Lithography 微影
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08 Ch9 etching
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09 CH8 DOPING
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10 ch5 氧化與熱處理
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11 CMP
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12 ch14_IC製程技術
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13 第三代、新興半導體材料
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作業解答區
教师 / 洪國永
教师 / 114教育部遠距審查教師1
教师 / 114教育部遠距審查教師2
教师 / 114教育部遠距審查教師3
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