1092_半導體製程_四技機械系三甲
上課期間：從 即日起 到 無限期
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課程介紹
課程安排
教學目標：
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課程大綱
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01 ch1 introduction (2 weeks))
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02 Ch2 clean room and wafer clean (2 weeks))
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03 ch4 Silicon wafer (1 week)
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04 Ch7 Plasma (2 weeks)
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05 Ch 11 PVD (2 weeks)
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06 CH10 CVD (1 week)
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07 Ch6 Lithography 微影 (2 weeks)
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08 Ch9 etching (2 weeks)
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09 CH8 DOPING (0.5 week)
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10 ch5 氧化與熱處理 (0.5 week)
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11 CMP 化學機械研磨 (1 week)
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12 ch14_IC製程技術 (補充教材)
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作業解答區
教師 / 洪國永
教師 /
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