1092_半導體製程_四技機械系三甲
上课期间：从 即日起 到 无限期
LINE分享功能只支援行动装置
课程介绍
课程安排
教學目標：
-
課程大綱
-
01-1 ch1 introduction
-
02 Ch2 clean room and wafer clean
-
03 ch4 Silicon wafer
-
04 Ch7 Plasma
-
05 Ch 11 PVD
-
06 CH10 CVD
-
07 Ch6 Lithography 微影
-
08 Ch9 etching
-
09 CH8 DOPING
-
10 ch5 氧化與熱處理
-
11 CMP
-
12 ch14_IC製程技術
-
作業解答區
教师 / 洪國永
教师 /
教师 /